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專利規(guī)避設計

專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權(quán)人進行侵權(quán)訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競 爭的合法行為。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結(jié)與 歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。
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        專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權(quán)人進行侵權(quán)訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結(jié)與歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。
 
        專利規(guī)避手段：對專利技術(shù)進行進一步的開發(fā)。通過將現(xiàn)有技術(shù)的某一個技術(shù)特征或多個技術(shù)特征進行省略或置換，保證實現(xiàn)原有功能或在原有功能的基礎上產(chǎn)生新的功能即可實現(xiàn)專利規(guī)避設計。具體為：
 
        (1)從權(quán)利要求出發(fā)。即采用與專利相近的技術(shù)方案，減少現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個技術(shù)特征，是必要技術(shù)特征來實現(xiàn)專利規(guī)避設計。這是最常見的規(guī)避設計，也是最與專利保護范圍接近的規(guī)避設計。顯然，這種規(guī)避設計的研發(fā)成本較低。
 
        (2)從技術(shù)問題出發(fā)。通過專利文件了解新產(chǎn)品的性能指標或技術(shù)方案解決的技術(shù)問題來分析是否有替代方案來解決同樣的技術(shù)問題，達到與現(xiàn)有技術(shù)相同的技術(shù)效果或更優(yōu)的技術(shù)效果。
 
        (3)從背景技術(shù)出發(fā)。通過了解背景技術(shù)來分析背景技術(shù)所存在的其他方面的技術(shù)問題或者從背景技術(shù)出發(fā)尋找新的思路來解決其存在的技術(shù)問題。
 
        (4)從發(fā)明內(nèi)容和具體實施方式出發(fā)。在此過程中，一方面尋找權(quán)利要求的概括疏漏，找出可以實現(xiàn)發(fā)明目的，卻未在權(quán)利要求中加以概括保護的實施例或相應變形;另一方面可以通過應用發(fā)明內(nèi)容中提到的技術(shù)原理、理論基礎或發(fā)明思路，創(chuàng)造出不同于權(quán)利要求保護的技術(shù)方案。
 
        (5)從審查文件出發(fā)。權(quán)利人不得在訴訟中，對其答復審查意見過程中所做的限制性解釋和放棄的部分反悔，而這些很有可能就是可以實現(xiàn)發(fā)明目的，但又排除在保護范圍之外的技術(shù)方案。