根據(jù)具體情況，策劃專利布局方案一般包含如下幾個步驟：
步， 找出關鍵技術部位
在專利分析的基礎上，根據(jù)發(fā)明目的、技術手段和技術效果對特定技術領域的專利進行深層剖析，挑選出相關專利，做成專利摘要表，然后依據(jù)各相關專利之發(fā)明點與技術效果，制成鳥瞰圖或矩陣圖等圖表。在此基礎上，找出擬研發(fā)課題最關鍵、最核心的技術部位之所在。企業(yè)進行任何投入都會從成本與收益上進行權衡，鋪天蓋地般的地毯式布局對許多企業(yè)來說往往是不切實際的，因此，首先找出關鍵技術部位對專利布局策劃十分重要。
第二步， 找出關鍵彈著區(qū)
在找出關鍵技術部位后，就需要根據(jù)擬定研發(fā)課題最關鍵與最核心的技術部位找出專利彈著區(qū)。建立在關鍵彈著區(qū)基礎上的專利布局，有利于集中火力打在關鍵技術部位上，獲得核心專利，甚至形成基礎專利或路障型專利。彈著區(qū)的多項關聯(lián)專利之組合，容易形成牢不可破的專利網(wǎng)，以此為基礎也容易形成各種專利布局。
例如，日本企業(yè)通過專利壟斷光學變焦鏡頭市場已長達數(shù)十年，它們彼此進行交叉許可，從而讓其他國家的競爭者毫無插足之地，其策略就是找到光學儀器最核心的彈著區(qū)，在最核心的技術部位建立稠密的專利網(wǎng)，使得競爭者只好知難而退。然而，最早取得光學變焦鏡頭專利的并不是日本人，而是美國人，后來德國和法國的企業(yè)也涉足過該領域，但他們卻沒有像日本人那樣采用集中火力的專利布局策略，從而也就沒能獲得全面壟斷的地位。
第三步，草擬布局方案
在找出關鍵彈著區(qū)后，接下來就要依據(jù)企業(yè)研發(fā)能力和企業(yè)經(jīng)營策略與經(jīng)營狀況，選擇合適的專利布局模式，并草擬初步布局方案。草擬布局方案前，必須首先衡量企業(yè)的研發(fā)能力。我國企業(yè)多數(shù)屬于技術追隨型企業(yè)，在核心技術研發(fā)和專利布局上往往不能與國外競爭者分庭抗禮，因此，在找到關鍵彈著區(qū)后，還必須根據(jù)企業(yè)研發(fā)能力，評估是否有機會在關鍵彈著區(qū)有所作為。如不然，則應當尋找其他關鍵且企業(yè)有能力作為的次彈著區(qū)，以迂回戰(zhàn)術，取得與強大競爭者對話與抗衡的機會。
例如，在手機產(chǎn)品上，通信協(xié)議標準和芯片等核心技術可能被國外企業(yè)所擁有，但手機的外觀設計卻是既較為關鍵又是很多企業(yè)有能力研發(fā)的，可以將其作為次彈著區(qū)，搶攻這方面的專利，從而進行專利布局。
第四步， 確定布局方案
獲得草擬布局方案后，應在分析規(guī)避可能性的基礎上，對草擬的布局方案進行細致分析和修改調(diào)整，從而確定最終的布局方案。競爭者為繞開專利，常常會想盡辦法進行規(guī)避設計，因此在有能力獲得核心技術專利的前提下進行專利布局時，必須盡量找出可能被規(guī)避設計的缺口，找出封堵各缺口的辦法和方案，由此封堵住競爭者進行規(guī)避設計的后路，消除后顧之憂。當然，封堵規(guī)避設計之后路，不一定都要采用申請專利的方式，若某種規(guī)避設計方案沒有任何商業(yè)利用的價值，競爭者也不會采用，就沒有必要耗財耗力地申請專利。
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